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AE遮罩mask节点控制插件 RevisionFX PV Feather 1.7.2d for AE

  • 软件大小:未知
  • 更新日期:2018-05-10
  • 官方网站:闪电下载吧
  • 软件等级:★★★☆☆
  • 运行环境:Winxp/Win7/Win8/Win10
AE遮罩mask节点控制插件 RevisionFX PV Feather 1.7.2d for AE
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RevisionFX PV Feather For AE是一款功能强大的AE遮罩mask节点控制插件允许您使用一个AE掩模控制填充区域和另一个AE掩码来控制羽化量,从而创建具有可变羽化量的蒙版。 以这种方式使用两个蒙版可以实现每个顶点的羽化控制。使我们能够在After Effects中直接进行复杂的每顶点羽化,而不必跳入其他合成器或专用的旋转屏幕应用程序。 PV羽毛现在是我们工具箱中不可或缺的工具,需要的朋友不要错过了!

安装破解教程

1、在本站下载并解压,得到PVFeather1AE-1.7.2d-windows-installer.exe安装程序和key文本

2、双击PVFeather1AE-1.7.2d-windows-installer.exe运行,点击next

3、勾选我接受协议,点击next

4、用户名 Team AMPED  注册码A1B6VSuq76hNIeV8,点击第一项安装

5、安装完成,点击finish退出向导

功能特色

1、逻辑控制
掩模自动偏移,仅偏移选定掩模点的能力,串联内外掩模相应控制点的能力

2、真实的运动BLUR
可以选择使用ReelSmart Motion Blur,如使用生成的哑光进行集成(而不是AE的多次采样方法)。

3、全面整合
您甚至可以使用AE动态模糊快门和角度设置。

4、兼容性
安装的插件将与After Effects CS5(及更高版本)配合使用。

5、系统要求
您使用的After Effects版本具有相同的操作系统和硬件要求。

使用帮助

插件的基本工作非常简单。
 
只需在您的图层上创建两个蒙版。 我们称它们为内蒙版和外蒙版。
 
 
“内部蒙版”设置设置为“内部蒙版”,“外部蒙版”设置设置为“外部蒙版”。 请注意,两个遮罩之间的距离决定了羽化量。 因为我们使用插件来提供掩码,因此时间轴中每个掩码的AE掩码模式都设置为“无”。 这可以通过将插件中的模式设置为“添加”(或任何需要的遮罩模式)来取代。
 
这是插件的基本工作。 希望这个想法相当简单明了。 当然,我们有很多需要解释的花里胡哨的东西,所以请继续阅读!
一些限制
 
请注意,插件的使用有一些限制。
 
1)为了正常工作,PV Feather在应用到图层的效果列表中不得有其他类型的插件。 将这个插件想象成AE的掩模的扩展,这是通过设计在效果之前应用的。 同样,如果一个图层上有3个或4个PV羽化实例,则它们必须是应用于该图层的3个第一个效果。 在AE 7中,如果先前应用了另一个非PV羽化效果,则只能在插件中使用相交掩模模式。 在AE6.5中,插件会产生一个半透明的红框,以表明存在问题。

2)这个插件在调整图层上不能正常工作。 如果您希望在一组图层上使用该插件,则需要预先撰写这些图层,并将PV羽毛应用于其他合成内的该预合成。
 
3)PV羽毛被设计为与当前PV羽毛的实例之前的AE掩模和其他PV羽毛实例一起使用。 请注意,AE的蒙版首先应用。 然后PV羽毛的每个实例。 因此,使用“常规”AE掩模与PV羽毛制作的掩模进行相减是不可能的。
 
要从PV羽毛面具中减去蒙版,必须再次使用PV羽毛,将其设置为要减去的蒙版,将PV羽毛的模式设置为“减去”。 当然,将AE时间线中的面罩模式设置为“无”(PV羽毛会为您做的)

对应信息插件为两个蒙版上的每个点设置对应关系。 为了显示插件在两个蒙板之间进行的对应关系,请单击效果控件窗口中的“PV羽毛”标签,或者在时间轴窗口内单击。 点击任何地方的标签将基本上选择效果,然后通知效果显示对应关系。


当内部掩码和外部掩码不是以相同的顶点顺序创建时,查看对应关系特别有用。 右侧图片中显示了这种情况(请注意羽化与预期不符)。 快速查看信函显示问题。 在两个蒙版的每一个上选择相应的顶点,并在两个蒙版上使用AE的层 - >蒙板 - >设置第一个顶点命令重设每个蒙版的“第一个顶点”可以帮助解决问题并按照原样恢复对应关系。
 
非封闭式遮罩此插件在内侧遮罩和外侧遮罩之间创建羽化。 如果Inside Mask未关闭,则插件无法填充内部,但仍可在两个遮罩之间创建羽化。 通过这种方式,您可以在AE中为现有的蒙版添加羽化。

控件在本节中,我们将描述插件的控件。
模式
无添加减去相交变暗差异
 
这些模式的工作方式与AE掩模设置完全相同。
 
倒置此设置与AE中掩模的倒置设置完全相同,并反转用于掩蔽的区域。

Mask Mask Mask内部这些设置允许您设置插件内部使用的内部和外部遮罩。 一旦使用这些设置设置了蒙版,插件会自动将AE的蒙版设置设置为无,因此您不会最终使用蒙版两次。 这个插件假定如果你为Inside Mask或Outside mask设置了一个掩码,那么你可能使用插件进行掩码而不是AE本身......所以它将AE的掩码模式设置为None。
 
如果“外部遮罩”设置为“无”,则仍然可以填充“内部遮罩”。 并且当没有外部遮罩时,如果PV羽毛的填充如果关闭复选框为ON,则PV羽毛将使用AE的羽化设置(使用时间线中的羽化设置作为遮罩)来羽化遮罩。 注意:PV Feather不使用时间线中的扩展设置。

匹配顶点
 
假设我们有两个面具,如下所示

如果未选中匹配顶点,则PV羽化将匹配“内蒙版”的整个长度与外蒙版的整个长度,而不是特别关注组成蒙版的顶点。

数字。 匹配顶点关闭时的对应关系。
 
如果匹配顶点是“开”,则每个对应的顶点匹配起来,如下所示:

数字。 显示的对应信息(Match Vertices on)
 
如果两个形状的顶点数不同,会发生什么情况,并检查Match Vertices? PV羽毛将匹配线段,直到只有1个顶点数量较少的线段留下。 然后剩下的数量更多的形状上的部分

顶点与具有较少数量的段的形状上的剩余段相匹配,如下所示:

人物。 匹配顶点开启和关闭的示例(显示和不显示对应关系)。

一起移动通常可以同时移动相应的内部遮罩点和外部遮罩点。 此设置允许您在选择并移动内部或外部遮罩上的两个对应点中的任意一个时移动两个点。 这使您可以移动两个点,而无需在移动之前选择两个点。
 
此选项仅在“匹配顶点”打开时可用。
如果关闭则填充通过取消选中此设置,您可以应用羽毛,如果关闭,则无需填充内部遮罩。

应用羽毛通过取消选中此设置,您可以关闭羽毛。

ReelSmart运动模糊
 
此设置允许您使用ReelSmart Motion Blur模糊蒙版,而不是After Effects的内置多重采样方法。 请注意,PV羽毛注意为PV羽毛的Innter Mask使用的蒙版设置的所有运动模糊设置(包括构图的快门和角度)以及蒙版包含在内的Comp。

此设置不打开和关闭运动模糊,而是在AE的运动模糊(多次采样)和ReelSmart运动模糊之间切换。 要控制关闭和开启运动模糊,请使用AE的运动模糊设置和用于内蒙版的蒙版(并且PV羽毛还关注运动模糊的渲染设置)。
 
Action为了使插件更有帮助,我们提供了一些操作来自动化一些典型的遮罩操作。
 
复制和偏移内蒙版此操作将选取蒙版,并用偏移量偏移内蒙版的每个选定顶点。 如果没有选择顶点,则所有顶点将被偏移。 顶点将按照在偏移量设置中指定的量从内蒙版上的原始位置偏移。


请注意,复制后,新复制的蒙版被命名为“Mask 1 Outer”,并将外蒙版菜单设置设置为此新创建的蒙版。
 

你可能会问自己,“我如何确定选择哪个顶点,因为当我选择”PV羽毛“插件时,将取消选择遮罩及其顶点。”
 

首先:选择所需的顶点(或者如果您想要所有顶点被偏移,则不选顶点):第二:通过单击效果控制窗口中或时间线内的“PV羽毛”标签来选择插件本身,如前所述讨论信件。
 

每个选定的顶点将以“+”显示。
 

注1:请注意,只有当外部遮罩设置为无时,才会显示内部遮罩的选定顶点。假设您复制并设置外部遮罩后,您不需要查看内部遮罩的选定顶点,因为您很可能会使用其他两个操作之一来进一步偏移和操作外部遮罩。
 

注2:通过单击After Effect窗口中的其他位置可轻松取消选择蒙版顶点。因此,建议您打开效果控制窗口,选择要偏移的顶点,然后立即在效果控制窗口中选择PV羽化插件,以便不会意外取消选定的遮罩顶点。


当前时间偏移外蒙版此操作将获取选定的外蒙版的顶点并将其偏移量设置为偏移量,但仅在当前时间(如果蒙版的形状为动画并且当前时间没有关键帧,则创建一个关键帧) 在效果控制窗口(或时间轴)中选择PV羽化时,外部蒙版的选定顶点将以“+”符号显示。如果没有选择顶点,所有顶点将显示为选中状态。
 

在所有关键帧处偏移外部遮罩此操作将采用所选外部遮罩的顶点,并用偏移量偏移它们,并且如果遮罩的形状为动画,则会在所有关键帧处执行此操作。在效果控制窗口(或时间轴)中选择PV羽化时,外部蒙版的选定顶点将以“+”符号显示。如果没有选择顶点,所有顶点将显示为选中状态。
 
 

要查看将为3个操作中的任何一个创建的偏移遮罩,请参阅下面的“显示偏移遮罩”设置说明。
 

显示连接当选择PV Feather插件时,显示两个掩码之间的连接有时会在视觉上令人困惑。该复选框允许您关闭连接对应显示。
 

显示偏移掩码通常可以在“操作”菜单中查看为偏移和偏移操作创建偏移掩码的位置。通过打开显示偏移遮罩,可以查看偏移遮罩的创建位置。此选项允许您擦除“偏移量”设置并交互式地查看偏移掩码的创建位置,从而减少了对以下工作流程的需求:设置偏移量;选择一个动作并查看偏移掩码的创建(或移动)位置;如果结果偏移掩码没有放在需要的位置,则撤消该操作;然后重置偏移量并再次尝试。
 

通过选中此选项,偏移掩码将在创建之前显示,并可通过清除偏移量交互式移动。但是,您需要选择其中一个“操作”菜单项,才能查看使用此偏移遮罩创建的最终遮罩羽毛。
 

注1:执行其中一个动作命令后,Show Offset Mask将不会被选中。这消除了在执行操作之后将新偏移的掩码再次显示为偏移的视觉混淆结果。
 

注2:请注意,只有当外部遮罩设置为无时,才会显示“重复和偏移操作”的内部遮罩偏移量。否则,将显示Outside Mask的偏移量。假设您在重复设置外部遮罩后不需要看到偏移内部遮罩,因为您很可能会使用其他两个操作之一来进一步抵消和操作外部遮罩。
 

原始图层此设置必须设置为插件应用于的图层,并且在插件应用时自动设置。我们必须向用户公开此设置,因为插件可能会这样
从另一图层剪切并粘贴时,获取分配给它的错误图层。 将该插件从一层剪切并粘贴到另一层后,请确保将原始图层设置重置为您应用插件的图层。
 
不透明度您可以通过为用于PV羽毛的内蒙版的蒙版设置AE的不透明度来控制蒙版的不透明度(蒙版不透明度设置可在AE的时间轴窗口内设置)。

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